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包絡(luò)的條件 |
「E」為Envelope的縮寫，指示尺寸公差、幾何公差的相互依存性。規(guī)範(fàn)完美形狀的包絡(luò)面。
- 何謂
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非剛性零件的自由狀態(tài) |
「F」為Free state的縮寫，在自由狀態(tài)下呈現(xiàn)超過(guò)尺寸公差及幾何公差的變形的零件。
- 何謂
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最小實(shí)體要求的適用 |
「L」為L(zhǎng)east Material Requirement的縮寫，指示最小實(shí)體要求適用的記號(hào)。
- 何謂
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最大實(shí)體要求的適用 |
「M」為Maximum Material Requirement的縮寫，指示最大實(shí)體要求適用的記號(hào)。
- 何謂
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延伸公差區(qū)域的指示 |
「P」為Projected Tolerance Zone的縮寫，指示對(duì)形態(tài)突出部適用公差的記號(hào)。
- 何謂
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不使用實(shí)體要求 |
| ANSI規(guī)格的記號(hào)。意即「Regardless of Feature Size（RFS）」。在2009年版ASME Y14.5已刪除。 |
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切平面的指示（僅限ASME） |
| 「T」為Tangent Plane的縮寫，在接觸其表面的平面所指示的表面範(fàn)圍，對(duì)於基準(zhǔn)平面的傾斜程度以平行度呈現(xiàn)。不同於平行度，規(guī)範(fàn)表面的凸部，不規(guī)範(fàn)凹部。 |
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輪廓度公差的非對(duì)稱分布（僅限ASME） |
| 「U」為Unequally Disposed Profile的縮寫，規(guī)範(fàn)在面的輪廓度，偏移量可以超過(guò)公差區(qū)域的範(fàn)圍（公差區(qū)域的界線）。在ISO以「UZ」標(biāo)記。 |
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附公差的形態(tài) |
記號(hào)、公差、幾何公差的類型及位置等指示。
- 形體控制框
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基準(zhǔn)指示 |
基準(zhǔn)的位置。
- 基準(zhǔn)形態(tài)的圖面標(biāo)記
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基準(zhǔn)目標(biāo) |
為了設(shè)定基準(zhǔn)的點(diǎn)、線、範(fàn)圍。
- 基準(zhǔn)目標(biāo)
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理論正確尺寸（TED） |
理論正確尺寸（TED：Theoretically Exact Dimension）。
- 真位置度理論（方塊圈住的尺寸值）
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公共公差帶 |
「CZ」為Common Zone的縮寫。將在分隔位置的複數(shù)形態(tài)視為單一公差區(qū)域的指定。
- 形體控制框
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輪廓度（全周） |
在以箭頭標(biāo)記形態(tài)的全周適用幾何公差。
- 形狀公差、位置公差-（線的輪廓度、面的輪廓度）
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輪廓度（整體） |
在以箭頭標(biāo)記形態(tài)的整體適用幾何公差。
- 形狀公差、位置公差-（線的輪廓度、面的輪廓度）
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可動(dòng)基準(zhǔn)目標(biāo)（僅限ASME，ISO提案中） |
| 指定的基準(zhǔn)目標(biāo)及相關(guān)基準(zhǔn)可以移動(dòng)。例如，即使是在目標(biāo)物裝有零件而目標(biāo)物變形時(shí)，基準(zhǔn)目標(biāo)及基準(zhǔn)也可以移動(dòng)。 |
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光點(diǎn)面（僅限ASME） |
將孔洞入口以更大的直徑削落加工再深一段。
- 光點(diǎn)面
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統(tǒng)計(jì)公差（僅限ASME） |
基於統(tǒng)計(jì)，將公差分配並指定在組裝結(jié)構(gòu)零件。 藉由適用統(tǒng)計(jì)公差，可以放大個(gè)別構(gòu)成要素的公差，並減少嵌合零件的間隙。可以減少製造成本且提升產(chǎn)品功能，但是此公差適用的前提在於有適當(dāng)統(tǒng)計(jì)工程管理。
- ISO與ASME的對(duì)比
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連續(xù)特徵（僅限ASME） |
「CF」為Continuous Feature的縮寫。 在經(jīng)要求做為幾何學(xué)上單一物品處理時(shí)指定。
- ISO與ASME的對(duì)比
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